|
Трудовые действия
|
Сбор, изучение и анализ информации для формирования исходных данных для проектирования топологии сложных цифровых ИС и однокристальных СВЧ МИС РЭС
|
|
|
Изучение схемной документации на разрабатываемые сложные цифровые ИС и однокристальные СВЧ МИС РЭС
|
|
|
Анализ и уточнение технического задания на разработку сложных цифровых ИС и однокристальных СВЧ МИС РЭС
|
|
|
Разработка библиотек пассивных и активных элементов однокристальных СВЧ МИС РЭС с использованием CAD-систем
|
|
|
Разработка библиотек функциональных узлов сложных цифровых ИС и однокристальных СВЧ МИС РЭС с использованием CAD-систем
|
|
|
Разработка топологии сложных цифровых ИС и однокристальных СВЧ МИС РЭС с использованием CAD-систем
|
|
|
Согласование разработанной топологии сложных цифровых ИС и однокристальных СВЧ МИС РЭС с технологами и внесение необходимых изменений
|
|
|
Разработка топологии тестовых структур
|
|
|
Коррекция топологии с учетом эффекта оптической близости
|
|
|
Разработка и подготовка файлов для литографии с предъявлением их для технического контроля, внесение необходимых изменений
|
|
|
Разработка и подготовка файлов для изготовления фотошаблонов с предъявлением их для технического контроля, внесение необходимых изменений
|
|
Необходимые умения
|
Переходить от схемы принципиальной электрической к сложным цифровым ИС РЭС, используя CAD-систему
|
|
|
Определять параметры сложных цифровых ИС и однокристальных СВЧ МИС РЭС с учетом особенностей топологии
|
|
|
Взаимодействовать с технологическими подразделениями при передаче топологии в производство
|
|
|
Подготавливать файлы необходимых форматов для электронных шаблонов проекционной литографии
|
|
|
Разрабатывать библиотеки функциональных узлов в CAD-системе
|
|
|
Разрабатывать библиотеки активных и пассивных компонентов однокристальных СВЧ МИС РЭС в CAD-системе
|
|
Необходимые знания
|
Методы разработки библиотеки активных и пассивных компонентов однокристальных СВЧ МИС РЭС в CAD-системе
|
|
|
Методы разработки библиотеки функциональных узлов в CAD-системе
|
|
|
Основы технологии литографии
|
|
|
Основы технологии производства ИС РЭС
|
|
|
Методики подготовки и нормативно-техническая документация на подготовку конструкторской документации для литографии
|
|
|
Современные системы проектирования топологии ИС РЭС
|
|
|
Параметры подложек и материалов, применяемых для производства сложных цифровых ИС и однокристальных СВЧ МИС РЭС
|
|
|
Методы статистической обработки данных и теория чувствительности устройств к разбросам параметров компонентов
|
|
Другие характеристики
|
-
|